Adhesion and Homogeneity of a-C:H:Si Films Deposited in a Modified Plasma Nitriding System for Industrial Application
- Forsich, C. (Redner*in)
- Daniel Heim (Redner*in)
- Andreas Gebeshuber (Redner*in)
- Thomas Müller (Redner*in)
Aktivität: Gespräch oder Vortrag › Vortrag