Zur Hauptnavigation wechseln Zur Suche wechseln Zum Hauptinhalt wechseln

120 nm resolution and 55 nm line width achieved in visible light STED-lithography

Aktivität: Gespräch oder VortragVortrag

Zeitraum15 Mai 2013
EreignistitelCLEO / Europe-IQEC 2013
VeranstaltungstypKonferenz
OrtMünchen, DeutschlandAuf Karte anzeigen